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        獨(dú)家!安集科技 VS 上海新安納 CMP 拋光液技術(shù)布局對比 ( 附專利總量對比、合作申請對比、重點(diǎn)專利布局對比等 ) 全球觀熱點(diǎn)

        2023-05-29 12:17:36來源:ZAKER科技  

        行業(yè)主要上市公司:安集科技 ( 688019 ) 、上海新陽 ( 300236 ) 、鼎龍股份 ( 300054 ) 、萬華化學(xué) ( 600309 ) 等


        【資料圖】

        本文核心數(shù)據(jù):安集科技和上海新安納專利申請數(shù)量、專利市場價(jià)值、重點(diǎn)專利布局

        全文統(tǒng)計(jì)口徑說明:1 ) 搜索關(guān)鍵詞:CMP 拋光液及與之相近似或相關(guān)關(guān)鍵詞 ;2 ) 搜索范圍:標(biāo)題、摘要和權(quán)利說明 ;3 ) 篩選條件:簡單同族申請去重、法律狀態(tài)為實(shí)質(zhì)審查、授權(quán)、PCT 進(jìn)入指定國 ( 指定期 ) ,簡單同族申請去重是按照受理局進(jìn)行統(tǒng)計(jì)。4 ) 統(tǒng)計(jì)截至日期:2023 年 4 月 17 日。5 ) 若有特殊統(tǒng)計(jì)口徑會在圖表下方備注。

        1、中國 CMP 拋光液技術(shù)競爭格局:安集科技和上海新安納為中國主要企業(yè)之二

        從企業(yè)的專利數(shù)量分布情況來看,安集科技和上海新安納屬于專利數(shù)量較多的企業(yè)。其中,安集科技的相關(guān)技術(shù)數(shù)量占比達(dá)到了 35% 左右,上海新安納的相關(guān)技術(shù)數(shù)量占比為 4% 左右。

        2、安集科技 V.S. 上海新安納技術(shù)布局對比

        ( 1 ) 專利申請量及 PCT 申請量對比:安集科技遙遙領(lǐng)先于上海新安納

        不過,在 CMP 拋光液專利申請量方面,安集科技 CMP 拋光液專利申請總量是上海新安納 CMP 拋光液專利申請量的 6 倍左右,分別為 124 項(xiàng)和 20 項(xiàng)。

        從趨勢上看,2004-2023 年安集科技在 CMP 拋光液領(lǐng)域各年專利申請量整體比上海新安納多。上海新安納各年專利申請數(shù)量均為個(gè)位數(shù),安集科技專利申請數(shù)量最高達(dá)到 18 項(xiàng)。( 2 ) 專利市場價(jià)值對比:微軟專利市場價(jià)值更高

        安集科技 CMP 拋光液專利總價(jià)值高于上海新安納,安集科技 CMP 拋光液專利總價(jià)值為 787.18 萬美元,是上海新安納的 4 倍多。

        在專利價(jià)值分布方面,兩者大多數(shù) CMP 拋光液專利價(jià)值主要集中在 3 萬 -30 萬美元。( 3 ) 專利申請地域?qū)Ρ龋好绹鵀閮烧咧饕季謪^(qū)域

        目前,安集科技和上海新安納的 CMP 拋光液專利申請區(qū)域主要集中在中國大陸,兩者在中國大陸申請的 CMP 拋光液專利數(shù)量分別為 111 項(xiàng)和 20 項(xiàng)。中國臺灣是安集科技 CMP 拋光液專利申請的第二大地區(qū),專利申請數(shù)量為 35 項(xiàng)。

        統(tǒng)計(jì)口徑說明:按每件申請顯示一個(gè)公開文本的去重規(guī)則進(jìn)行統(tǒng)計(jì),并選擇公開日最新的文本計(jì)算。

        ( 4 ) 專利類型對比:兩者以發(fā)明專利為主

        從專利類型分布情況來看,安集科技和上海新安納 CMP 拋光液專利申請類型均為發(fā)明專利。

        ( 5 ) 專利技術(shù)構(gòu)成對比:兩者布局的第一大細(xì)分領(lǐng)域一致,但微軟聚焦領(lǐng)域更為明顯

        目前,"C09G1 拋光組合物 ( 蟲膠清漆入 C09F11/00; 洗滌劑入 C11D ) [ 2006.01 ] " 為安集科技和上海新安納的第一大 CMP 拋光液技術(shù)細(xì)分分布領(lǐng)域,兩者在這一領(lǐng)域的專利申請量分別為 121 項(xiàng)和 19 項(xiàng)。兩者其它重點(diǎn)細(xì)分 CMP 拋光液技術(shù)布局情況如下:

        從 CMP 拋光液專利聚焦的領(lǐng)域看,目前微軟的 CMP 拋光液專利聚焦領(lǐng)域較明顯,其主要聚焦于化學(xué)機(jī)械、拋光液等。( 6 ) 專利創(chuàng)新戰(zhàn)略總結(jié)

        整體來看,安集科技 CMP 拋光液技術(shù)在質(zhì)量提升、專業(yè)化、多樣化和國際化具有相對競爭優(yōu)勢,上海新安納 CMP 拋光液技術(shù)則在數(shù)量增長、市場推動和合作性上具有相對競爭優(yōu)勢。

        更多本行業(yè)研究分析詳見前瞻產(chǎn)業(yè)研究院《中國半導(dǎo)體 CMP 材料(拋光液 / 墊)行業(yè)發(fā)展前景預(yù)測與投資戰(zhàn)略規(guī)劃分析報(bào)告》,同時(shí)前瞻產(chǎn)業(yè)研究院還提供產(chǎn)業(yè)大數(shù)據(jù)、產(chǎn)業(yè)研究、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、園區(qū)規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)招商、產(chǎn)業(yè)圖譜、產(chǎn)業(yè)鏈咨詢、技術(shù)咨詢、IPO 募投可研、IPO 業(yè)務(wù)與技術(shù)撰寫、IPO 工作底稿咨詢等解決方案。

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