荷蘭推 DUV 光刻機“出口管制”？ASML 最新回應聲明來了

(相關資料圖)

每經記者：朱成祥 每經編輯：魏官紅

6 月 30 日，關于荷蘭政府頒布最新半導體設備出口管制條例的相關內容，ASML 方面向《每日經濟新聞》記者提供了一份聲明。

聲明顯示，2023 年 6 月 30 日——荷蘭政府頒布了有關半導體設備出口管制的新條例。正如其在今年 3 月發布的消息中所述，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統。

根據新出口管制條例規定，ASML 需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式 DUV 系統（即 TWINSCAN NXT：2000i 及后續推出的浸潤式光刻系統）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發出口許可證，并將向 ASML 提供許可證所附條件的細節。

ASML 方面表示，公司的 EUV 光刻系統在此前已經受到限制。ASML 其他光刻系統的發運未受荷蘭政府管控。公司將繼續遵守適用的出口管制條例，其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。

此外，荷蘭政府新頒布的出口管制條例將于 2023 年 9 月 1 日生效，在此日期前，ASML 可開始提交出口許可證申請。荷蘭政府將視具體情況批準或拒絕這些申請。

基于今日（6 月 30 日）的公告，ASML 認為這些管制條例不會對已發布的 2023 年財務展望以及于 2022 年 11 月投資者日宣布的長期展望產生重大影響。

需要重點指出的是，荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及 TWINSCAN NXT：2000i 及后續推出的浸潤式系統。此外，ASML 長期展望的基礎是全球的長期需求和技術趨勢。

每日經濟新聞